Oct, 31, 2024

Vol.57 No.5

Editorial Office

Review

  • KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering
  • Volume 17(2); 1984
  • Article

Review

KISE Journal of Korean Institute of Surface Engineering 1984;17(2):59-63. Published online: Nov, 30, -0001

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Amorphous Silicon의 電解鍍金

  • Lee, Ju-Seong;
    한양대학교 공과대학 공업화학과;
Abstract

하루가 다르게 발전하고 있는 최첨단기술인 電子材料의 膜 형성기술중 amorphous silicon(a-Si) 을 電氣鍍金으로 얻는 방법을 소개하였다. 1975년 a-Si이 p-n制御가 가능한 半導體임이 확인된 이후, 큰 면적의 太陽電池, 複寫機用 感光體薄膜, transistor array 등의 응용이 착착 진행되고 있다. 종래의 單結晶실리콘 半導體를 이용한 太陽電池는 가격면에서 비싸 경제성이 적었던 것이 a-Si의 등장으로 小型 計算機등에 까지 a-Si

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